特許

J-GLOBAL ID：200903080777458808

荷電粒子線露光方法および荷電粒子線露光装置

発明者： 中筋 護
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-205262
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057999
出願日： 1993年08月19日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：

【要約】【目的】 マスクと試料との位置調整の無駄時間を圧縮してスループットを向上させることが可能な露光方法を提供する。【構成】 互いに対向させて配置される試料WおよびマスクMを互いの対向面に沿って反対方向Fm,Fwへ連続移動させつつ、マスクMに荷電粒子線を照射してその照射領域に形成された原パターンPSに対応する露光パターンPTを試料Wの所定位置に転写し、この露光パターンPTの転写を繰り返して試料W上に複数のチップCを形成する露光方法において、試料W上の複数のチップCの露光パターンPTに対応する複数の原パターンPSをマスクMの連続移動方向Fmへ並べて形成し、このマスクMと試料Wとの1回の連続移動により複数の原パターンPSに対応する露光パターンPTを試料Wに続けて転写する。

請求項（抜粋）：

互いに対向させて配置される試料およびマスクを互いの対向面に沿って反対方向へ連続移動させつつ、前記マスクに荷電粒子線を照射してその照射領域に形成された原パターンに対応する露光パターンを前記試料の所定位置に転写し、この露光パターンの転写を繰り返して前記試料上に複数のチップを形成する荷電粒子線露光方法において、前記試料上の複数のチップの露光パターンに対応する複数の原パターンを前記マスクの連続移動方向へ並べて形成し、このマスクと前記試料との1回の連続移動により前記複数の原パターンに対応する露光パターンを前記試料に続けて転写することを特徴とする荷電粒子線露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521