特許
J-GLOBAL ID：200903080804177794
硬質多層膜形成体およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-205042
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049645
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：
【要約】【目的】 耐摩耗性、自己潤滑性および耐熱性の改善された硬質多層膜形成体を提供するものである。【構成】 基材表面にチタン化合物系硬質耐摩耗性被膜層、シリコンを含有する硬質カーボン層を順次形成してなるもので、各層はプラズマCVD法によりまず第一層を400〜550°Cの温度で形成し、つぎに真空を維持したままテトラメチルシランあるいはテトラエチルシラン又はそれにハイドロカーボン又は/および水素を混合した原料ガスを導入し550°C以下の温度で圧力0.05〜0.5torrで第2層を形成する。
請求項（抜粋）：
基材表面にチタン化合物系硬質耐摩耗性被膜層、シリコンを含有する硬質カーボン層を順次形成してなることを特徴とする硬質多層膜形成体。
IPC (2件)：
引用特許：
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