特許

J-GLOBAL ID：200903080812699902

処理方法及び処理装置

発明者： 八重樫 英民 ,  川上 恭徳 ,  朴 載勲 ,  神澤 敬子 ,  片野 貴之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-094752
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260275
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の解像不良を防止し、歩留まりの向上及び装置の信頼性の向上を図ること。【解決手段】 塗布処理部10、現像処理部20及びインター・フェース部30のうち、少なくとも塗布処理部10及びインター・フェース部30内の雰囲気中の解像不良を起こす不純物濃度を検出し、その検出された濃度値と予め記憶された解像不良しきい値あるいはそれより低い値とをCPU60にて比較処理して、解像不良しきい値あるいはそれより低い値に基いて塗布処理部10及びインター・フェース部30内の雰囲気中の不純物濃度を所定値以下に制御する。

請求項（抜粋）：

被処理体に処理液を塗布した後、被処理体を露光処理し、露光処理された被処理体を温度調整した後、現像処理する処理方法において、少なくとも上記処理液の塗布処理から現像処理に至るまでの上記被処理体の雰囲気中における解像不良を起こす不純物の濃度を検出し、検出された濃度値の解像不良しきい値に基いて上記各処理部の雰囲気を制御するようにしたことを特徴とする処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 565 ,  G03F 7/30 501