特許

J-GLOBAL ID：200903080822994180

化粧料

発明者： 坪根 和幸 ,  小川 朋康
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061377
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256145
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】皮膚安全性に顕著に優れる化粧料を提供すること。【解決手段】2鎖2親水基含有陰イオン界面活性剤として、未中和のカルボキシル基を分子内に持つ2鎖2親水基含有陰イオン界面活性剤のみを含有する。具体例として1,2-エチレンジアミン-N,N′ビスラウリル-N,N′-ビスアスパラギン酸ジナトリウムやビス-酢酸ジナトリウムが上げられる。

請求項（抜粋）：

2鎖2親水基含有陰イオン界面活性剤として、未中和のカルボキシル基を分子内に持つ2鎖2親水基含有陰イオン界面活性剤のみを含有することを特徴とする化粧料。

IPC (3件)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/00 ,  C11D 1/10

FI (3件)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/00 C ,  C11D 1/10

Fターム (14件)：

4C083AC182 ,  4C083AC581 ,  4C083AC662 ,  4C083CC01 ,  4C083CC38 ,  4C083EE10 ,  4H003AB06 ,  4H003AB09 ,  4H003AC08 ,  4H003BA12 ,  4H003DA02 ,  4H003ED02 ,  4H003FA01 ,  4H003FA02