特許
J-GLOBAL ID：200903080824424275
位相シフトフォトマスクにおける無効部分の発生を防止する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235930
公開番号（公開出願番号）：特開平5-197130
出願日： 1992年09月03日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：
【要約】【目的】 位相シフタの透明エッジ部を起因として集積回路の表面上に転写される不都合な縦梁部の形成を回避して位相フォトマスクにおける無効部位の発生を防止する方法を提供する。【構成】 透明石英基板10と複数の非透過光部12とを有するフォトマスクを形成する段階と、該基板から隆起する複数の透明な位相シフト部14を形成する段階と、該位相シフト部の少なくとも1つの一端部に光学的に透明なエッジ部26を設ける段階と、該位相シフト部の透明エッジ部をテーパ形状にする段階とから成る。さらに、該フォトマスク基板および位相シフタ間のテーパ状エッジ部に沿う任意の点における傾斜を45°よりも小さい角度とし、システム固有の広がり関数により画像が発生しないようにした。
請求項（抜粋）：
透明基板と複数の非透過光部とを有するフォトマスクを形成する段階と、該基板から隆起する複数の透明な位相シフト部を形成する段階と、該位相シフト部の少なくとも1つの一端部に光学的に透明なエッジ部を設ける段階と、該位相シフト部の透明エッジ部をテーパ形状にする段階と、から成ることを特徴とする位相シフトフォトマスクにおける無効部位形成の防止方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
