特許
J-GLOBAL ID:200903080836829173
すべり軸受のライニングの形成
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-536903
公開番号(公開出願番号):特表2002-506926
出願日: 1999年03月12日
公開日(公表日): 2002年03月05日
要約:
【要約】軸受合金の粒子を基板上に高速ガス式溶射によって噴射するステップと、前記層をライニングが形成されるように処理するステップとを含むすべり軸受ライニングを基板上に形成する方法。
請求項(抜粋):
高速ガス式溶射によって金属粒子を基板上に噴霧し、層を形成するステップと、前記層を処理して軸受ライニングを形成するステップとを含んでなるすべり軸受のライニングを基板上に形成する方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (9件):
4K031AA02
, 4K031CB08
, 4K031CB18
, 4K031CB35
, 4K031CB37
, 4K031DA01
, 4K031EA10
, 4K031EA12
, 4K031FA01
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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