特許
J-GLOBAL ID：200903080837420830
枚葉式ホットウォール処理装置及びそのクリーニング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-254683
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086170
出願日： 1993年09月17日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】 処理装置を解体することなく、そのままの状態でしかもプラズマレスで構成部材を損ねるこなく処理室内を完全にクリーニングすることができる枚葉式ホットウォール処理装置のクリーニング方法を提供する。【構成】 本枚葉式ホットウォール処理装置のクリーニング方法は、クリーニングガス供給系12からガス分散供給部8を介して処理室2内にClF3ガスを供給し、このClF3ガスにより処理室2の内部に付着した成膜時の付着物をクリーニングするようにしたものである。
請求項（抜粋）：
被処理体を収納する処理室と、この処理室内に配設され且つ1枚の被処理体を支持する支持体と、この支持体を介して被処理体を加熱する第1加熱手段及び処理室の壁面を加熱する第2加熱手段とを備えた枚葉式ホットウォール処理装置において、上記処理室にClF3ガスを供給するクリーニングガス供給系を設け、このクリーニングガス供給系から処理室内部へClF3ガスを供給し、このClF3ガスにより処理室の内部に付着した付着物をクリーニングすることを特徴とする枚葉式ホットウォール処理装置。
引用特許：
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