特許
J-GLOBAL ID：200903080838795896
レーザ加工用マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-230597
公開番号（公開出願番号）：特開平7-080675
出願日： 1993年09月17日
公開日（公表日）： 1995年03月28日
要約：
【要約】【目的】 誘電体多層膜よりなるマスクに関し、レーザ光の透過率を選択的に変えることを目的とする。【構成】 マスクを形成する誘電体多層膜の層数を部分的に変えることによりレーザ光の透過率を選択的に変えてレーザ加工用マスクを構成する。
請求項（抜粋）：
高出力なレーザ光の選択露光に使用する誘電体多層膜よりなるマスクにおいて、該マスクを形成する誘電体多層膜の層数を部分的に変えてレーザ光の透過率を選択的に変えることを特徴とするレーザ加工用マスク。
IPC (4件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00 330
, G03F 1/00
, H05K 3/00
