特許
J-GLOBAL ID：200903080868847483
金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスと装置、およびこのプロセスによって生成される被膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
奥山 尚一
, 有原 幸一
, 松島 鉄男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-580609
公開番号（公開出願番号）：特表2005-521794
出願日： 2002年09月23日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
金属および合金のプラズマ電解酸化を実施し、それらの表面に2-10μm/分の速度でセラミック被膜を形成するプロセスと装置を開示する。 プロセスは電解液内における音波周波数範囲の音響振動の生成と組合せて特定形状を有する予め定められた周波数範囲内の高周波の電流パルスを用いる。ここで、電流パルスの周波数範囲と音響振動の周波数範囲は互いに重なる。 プロセスは超分散粉体を電解液内に導くことができ、音響振動は安定した水性ゾルの形成と所定の特性を有する被膜の生成を促進する。 プロセスは150μmに至る厚みを有する緻密で硬質の微細結晶性セラミック被膜を生成することができる。被膜は多孔性外層の比厚みを低減させること(全被膜厚みの14%よりも小さい厚み)および酸化された表面の粗さを小さくすること(Ra:0.6-2.1μm)によって特徴付けられる。
請求項（抜粋）：
第1電極が取り付けられ、かつ水性アルカリ電解液で満たされる電解槽であって、他の電極が接続された物品が浸漬された電解槽内において、金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスであって、前記プロセスがプラズマ放電方式でなされるようにパルス電流が前記電極間に供給されるプロセスにおいて、
i)前記電極に予め定められた周波数範囲を有する高周波の二極性電流パルスを供給する工程と、
ii)予め定められた音波周波数範囲の音響振動を前記電解液中に生成させる工程であって、前記音響振動の周波数範囲は前記電流パルスの周波数範囲と重なるような工程と
を備えるプロセス。
IPC (5件)：
C25D11/04
, C25D11/06
, C25D11/26
, C25D11/30
, C25D11/34
C25D11/04 101E
, C25D11/04 C
, C25D11/04 101B
, C25D11/04 101H
, C25D11/06 A
, C25D11/26 301
, C25D11/26 302
, C25D11/26 303
, C25D11/30
, C25D11/34 F
