特許

J-GLOBAL ID：200903080873661622

廃棄物の処理方法と処理装置

発明者： 久世 鼎 ,  石川 雅堂
出願人/特許権者： 久世 鼎 ,  石川 雅堂
代理人 (1件)： 西田 新 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-195193
公開番号（公開出願番号）：特開平8-057254
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】生活・産業廃棄物、特に医療廃棄物の殺菌・浄化を行う。【構成】焼却炉から出た排ガスを磁場を通した上で細管を通して小径の気泡としてタンク中の処理液の旋流中に案内して排ガスの含有成分のイオン化を促進することを特徴とした廃棄物の処理装置とその方法。

請求項（抜粋）：

排ガス処理液供給装置と不可分一体に連結されたタンク2と、焼却炉から供給された排ガスを同タンク2に供給するダクト1と、ダクト1内に設けられてダクト中の排ガスを分離・分割してタンク2内の処理液中に放散させる細管8とからなる廃棄物処理装置。

IPC (8件)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/77 ,  A61G 12/00 ,  A61L 11/00 ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00

FI (4件)：

B01D 53/34 134 B ,  B01D 53/34 ZAB ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 303 Z