特許

J-GLOBAL ID：200903080877304409

加熱処理装置

発明者： 宮本 英典 ,  上田 康爾 ,  青木 泰一郎
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161518
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012522
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】 従来のホットプレートを備えた加熱装置では、掃気を均一に行うことができない。【解決手段】 ホットプレート3の周縁部には壁体7が設けられ、この壁体7の上縁部には掃気時において雰囲気ガスが通過する凹部8が全周に亘って形成されている。また、装置本体2の側壁には掃気用パイプ9が取り付けられ、この掃気用パイプ9は壁体7の上端よりも低くなる位置に開口している。このように、構成することで、板状被処理物W表面の空気は壁体7の凹部8を介して外側に引かれ、乱れが生じにくくなるとともに板状被処理物Wの表面温度の低下を抑制することが可能となる。

請求項（抜粋）：

板状被処理物を加熱処理するホットプレートと、装置本体内の雰囲気ガスを排出する掃気手段とを備えた加熱処理装置において、前記ホットプレートの周縁部には壁体が設けられ、この壁体には掃気時における雰囲気ガスの通過部が全周に亘って形成されていることを特徴とする加熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

H01L 21/30 567 ,  C23C 14/50 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 E