特許
J-GLOBAL ID：200903080879498189

投影装置

発明者：
佐藤 朋子

佐藤 朋子 について

, 
研野 孝吉

研野 孝吉 について


出願人/特許権者：
オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-154492
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337389
出願日： 2000年05月25日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 照明手段を備えた投影装置において、光源からの直接反射光が投影光学系の入射瞳に入らずに、かつ、照明系も含めた撮像系全体の大きさを小型化する。【解決手段】 情報を記録した2次元物体と、物体を投影する正のパワーを持った光学系1と、光学系1によって投影された像を撮像する撮像手段と、物体を照明する少なくとも1つの照明手段4を有する投影装置において、照明手段4が発する照明光6が物体で反射した後の光束外に光学系1の入射瞳5が配置され、かつ、光学系1の光軸に対して物体面2が傾いて配置されている投影装置。
請求項（抜粋）：
情報を記録した2次元物体と、前記物体を投影する正のパワーを持った光学系と、前記光学系によって投影された像を撮像する撮像手段と、前記物体を照明する少なくとも1つの照明手段を有する投影装置において、θを物体面内での撮像領域の中で最大像高の主光線の入射角、φobj を投影光学系の光軸に対する物体面の法線の傾きとして、前記投影光学系の光軸に対して物体面が、(1) θ/2≦φobj ≦θを満たすように傾いて配置され、かつ、像面側撮像領域最外周の点からの光線逆追跡において、その主光線が物体面で反射した後の軌跡より外側に配置されていることを特徴とする投影装置。
IPC (3件)：
G03B 21/00 ,  G02B 3/04 ,  G02B 13/18
FI (3件)：
G03B 21/00 D ,  G02B 3/04 ,  G02B 13/18
Fターム (20件)：
2H087KA00 ,  2H087LA01 ,  2H087PA01 ,  2H087PA02 ,  2H087PA17 ,  2H087PB01 ,  2H087PB02 ,  2H087QA02 ,  2H087QA06 ,  2H087QA07 ,  2H087QA12 ,  2H087QA21 ,  2H087QA34 ,  2H087QA41 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA34 ,  2H087RA37 ,  2H087RA45
引用特許：
審査官引用 (3件)

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