特許

J-GLOBAL ID：200903080891562160

表面分析装置におけるスペクトルピーク位置の補正方法

発明者： 田澤 豊彦
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-305599
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116163
出願日： 2000年10月05日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】 帯電中和機構を設けたり補正基準用の参照物質の蒸着などの試料処理を必要としない、表面分析装置におけるスペクトルピーク位置の補正方法を提供する。【解決手段】 試料表面をエッチングしながらX線又は電子線を照射して得られる試料の深さ方向のエネルギースペクトルのピーク位置を検出して、試料の元素の化学状態を分析する表面分析装置におけるスペクトルピーク位置の補正方法において、分析対象元素が存在する試料上層部と接する基板部の界面領域の基板部を構成する元素のエネルギースペクトルのピーク位置の帯電によるシフト量に基づいて、上層部に存在する分析対象元素のエネルギースペクトルのピーク位置を補正する。

請求項（抜粋）：

試料表面をエッチングしながらX線又は電子線を照射して得られる試料の深さ方向のエネルギースペクトルのピーク位置を検出して、試料の元素の化学状態を分析する表面分析装置におけるスペクトルピーク位置の補正方法において、分析対象元素が存在する試料上層部と接する基板部の界面領域の基板部を構成する元素のエネルギースペクトルのピーク位置の帯電によるシフト量に基づいて、上層部に存在する分析対象元素のエネルギースペクトルのピーク位置を補正することを特徴とする表面分析装置におけるスペクトルピーク位置の補正方法。

IPC (2件)：

G01N 23/227 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 23/227 ,  H01L 21/66 P ,  H01L 21/66 N

Fターム (27件)：

2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001BA08 ,  2G001BA09 ,  2G001CA03 ,  2G001EA04 ,  2G001FA06 ,  2G001FA12 ,  2G001FA17 ,  2G001FA30 ,  2G001GA01 ,  2G001GA08 ,  2G001HA01 ,  2G001JA11 ,  2G001KA01 ,  2G001MA05 ,  2G001RA04 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA20 ,  4M106CB02 ,  4M106CB21 ,  4M106DH01 ,  4M106DH24 ,  4M106DH33 ,  4M106DH34 ,  4M106DJ20