特許

J-GLOBAL ID：200903080897097426

洗浄用組成物

発明者： 古池 稔 ,  手塚 秀樹
出願人/特許権者： 共栄社化学株式会社
代理人 (1件)： 小宮 良雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-083874
公開番号（公開出願番号）：特開2001-271097
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】オゾン層や地下水汚染がなく、金属部品に付着するフラックス残渣や加工油等汚染対象物質に対する洗浄性と洗浄液の非残留性に優れ、しかも油水分離性に優れているため、洗浄液の再利用と産業廃棄物処理の軽減が可能な洗浄用組成物を提供すること。【解決手段】下記式(1) R1O(CH2CH2O)n(CHCH3CH2O)mH............(1)(R1は炭素数8〜16の第1級分枝状アルキル基、nは8〜20の整数、mは1〜10の整数。)で示されるポリオキシエチレンポリオキシプロピレン第1級分枝アルキルエーテルブロック体の単独又はそれら異性体の混合物と下記式(2)R2O(CH2CH2O)pH..................(2)(R2はフェニル基、pは1〜8の整数)で示されるポリオキシエチレンモノフェニルエーテルとを含有する洗浄用組成物。

請求項（抜粋）：

ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン第1級分枝アルキルエーテルブロック体の単独又はそれら異性体の混合物とポリオキシエチレンモノフェニルエーテルとを含有することを特徴とする洗浄用組成物。

IPC (5件)：

C11D 10/02 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/20 ,  C11D 17/08 ,  C23G 5/00

FI (5件)：

C11D 10/02 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/20 ,  C11D 17/08 ,  C23G 5/00

Fターム (22件)：

4H003AC08 ,  4H003AC23 ,  4H003BA12 ,  4H003DA11 ,  4H003DA12 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003EB34 ,  4H003ED02 ,  4H003ED29 ,  4H003FA19 ,  4H003FA23 ,  4K053PA02 ,  4K053QA04 ,  4K053QA05 ,  4K053RA07 ,  4K053RA41 ,  4K053RA57 ,  4K053RA64 ,  4K053RA66 ,  4K053YA03 ,  4K053ZA10