特許
J-GLOBAL ID:200903080897114568

水素精製装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松田 正道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-156070
公開番号(公開出願番号):特開2002-348102
出願日: 2001年05月24日
公開日(公表日): 2002年12月04日
要約:
【要約】【課題】 簡素な構成、かつ単純な制御で変成触媒および浄化触媒の温度を速やかに上昇させ、起動時間の短縮や、触媒反応性の維持を実現し、浄化部出口ガス中の一酸化炭素濃度を低濃度で安定させることができる水素精製装置を提供する。【解決手段】 改質部1、原料供給部3、水供給部4、改質加熱部5により構成され改質ガスを供給するガス供給部と、変成触媒を有する変成部6と浄化触媒を有する浄化部13とを具備し、前記変成触媒および前記浄化触媒が担持されている担体基材は導電性を有する材料であり、前記担体基材に電流を流すことで発熱させる構成をもつことを特徴とする水素精製装置。
請求項(抜粋):
少なくとも水素と一酸化炭素を含有する改質ガスを供給するガス供給部と、水と一酸化炭素をシフト反応させる変成触媒を有する変成触媒体を持つ変成部と、一酸化炭素を酸化および/またはメタン化によって除去する浄化触媒を有する浄化触媒体を持つ浄化部と、前記変成触媒および/または前記浄化触媒が担持されている担体基材に電流を流すことで発熱させる制御手段とを備えた水素精製装置。
IPC (5件):
C01B 3/48 ,  C01B 3/32 ,  C10K 3/04 ,  H01M 8/04 ,  H01M 8/06
FI (5件):
C01B 3/48 ,  C01B 3/32 A ,  C10K 3/04 ,  H01M 8/04 G ,  H01M 8/06 G
Fターム (20件):
4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB31 ,  4G040EB32 ,  4G040FA02 ,  4G040FB04 ,  4G040FC07 ,  4G040FE03 ,  4H060AA02 ,  4H060BB12 ,  4H060CC18 ,  4H060DD02 ,  4H060EE03 ,  4H060GG02 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA17 ,  5H027KK31 ,  5H027MM21

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