積層間検出方法及びその装置並びに半導体製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-065133
公開番号（公開出願番号）：特開2001-257194
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：

【要約】【課題】リアルタイムに正確に膜厚エンドポイントを検出する。【解決手段】チャンバ1内のエッチング中のサンプルウエハ3からの放射光を分光器6で受光して波長毎に分光強度を測定し、この測定された放射分光強度データに基づいてエンドポイント検出部8により膜厚エンドポイントを検出する。

請求項（抜粋）：

一層毎に順次減少する積層体からの放射光を受光して波長毎に分光強度を測定し、この放射分光強度データに基づいて前記積層体の層間を検出することを特徴とする積層間検出方法。

Fターム (3件)：

5F004AA15 , 5F004CB09 , 5F004CB15

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