特許

J-GLOBAL ID：200903080921801695

フォトリソグラフィー方法

発明者： 鳴瀧 陽三
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-301191
公開番号（公開出願番号）：特開平8-160625
出願日： 1994年12月05日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：

【要約】【構成】 所望のパターンを第1の光により空間変調素子2に形成する第1工程と、空間変調素子2に形成されたパターンを第2の光により基板4のレジスト層に投影する第2工程とからなる感光工程を含むフォトリソグラフィー方法。【効果】 フィルム原版を作製する必要がなくなるので、短時間で所望のパターンを有する基板4を製造できる。しかも、空間変調素子2に形成されたパターンは、自由に書き換え可能であるため、設計変更に伴うパターンの変更にもすぐに対応できる。

請求項（抜粋）：

基板上のレジスト層を所望のパターンに感光させる感光工程と、感光させたレジスト層を現像する現像工程と、現像により残ったレジスト層をマスクとして、基板をエッチングするエッチング工程とを含むフォトリソグラフィー方法において、上記の感光工程は、所望のパターンを第1の光により空間変調素子に形成する第1工程と、空間変調素子に形成されたパターンを第2の光により基板上のレジスト層に投影する第2工程とからなることを特徴とするフォトリソグラフィー方法。

IPC (5件)：

G03F 7/20 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/135 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06