特許
J-GLOBAL ID:200903080926789626

光によるLSI製造縮小投影露光装置の光学系

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-327947
公開番号(公開出願番号):特開平5-062877
出願日: 1991年09月02日
公開日(公表日): 1993年03月12日
要約:
【要約】〔目的〕 短波長紫外線を光源とした、焦点深度が深く露光面積が広くかつ開口数の大きい、ミラータイプのステツパを得る。〔構成〕 回転楕円凹面鏡の一方と焦点に光源を,もう一方の焦点に平面鏡7の小孔8を設置し、かつその小孔8は放物面鏡10の焦点にもなっている。〔効果〕 高コヒーレント光を光源とすることにより、焦点深度を深くし種々の収差を除き実効開口数を向上した。又レチクル像をウエハ上の像より大きくとることと、照射光の波長域幅を広くとることにより高コヒーレント光使用による像の劣化を防いでいる。この時光学系間を透明な液体で満たすと解像力が向上する。
請求項(抜粋):
〔請求項1〕 レチクルの前方の一点に集中する照射機構を有し、その光の集中する一点に平面鏡の有する小孔を一致して平面鏡を設置し、その平面鏡の鏡面の対面に凹面鏡を設置したことを特徴とするLSI製造縮小投影露光装置の光学系。〔請求項2〕 光学系の間の空間を透明な液体で満たし、その透明な液体を循環さしている構造の請求項1記載のLSI製造縮小投影露光装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G02B 17/06 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

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