特許
J-GLOBAL ID：200903080928226149

磁気ディスク製造方法

発明者：
美根 宏則

美根 宏則 について

, 
二村 和男

二村 和男 について


出願人/特許権者：
富士電機株式会社

富士電機株式会社 について


代理人 (1件)： 山口 巖 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-170612
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351231
出願日： 2000年06月07日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 特定の磁気パターンを磁気転写方式で磁気ディスクへ記録する場合のパーティクルの影響を低減する。【解決手段】 特定の磁気パターンを転写する工程(?D参照)を実行するに当たり、スパッタ後の潤滑剤塗布後(?A,?B参照)に、磁気ディスク上にパーティクルなどのゴミが付着していないかどうかを試験する光学外観検査(?C参照)を行なうことで、パーティクルを付着し難くし、密着させた状態での磁気転写を可能として信頼性を向上させる。
請求項（抜粋）：
所定の磁気パターンを持つマスタディスクを磁気ディスクに密着させて外部より磁界を加え、前記所定の磁気パターンを磁気ディスク上に転写する磁気転写工程を実行する磁気ディスク製造方法において、磁性膜のスパッタおよび潤滑剤塗布後に前記磁気転写工程を実行することを特徴とする磁気ディスク製造方法。
IPC (2件)：
G11B 5/86 ,  G11B 5/84
FI (3件)：
G11B 5/86 C ,  G11B 5/86 B ,  G11B 5/84 Z
Fターム (4件)：
5D112AA24 ,  5D112DD00 ,  5D112JJ05 ,  5D112JJ07
引用特許：
審査官引用 (4件)
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