特許

J-GLOBAL ID：200903080943057264

ナノワイヤ及びその製造方法

発明者： 浅見 晴洋 ,  神谷 格 ,  原 正彦 ,  中村 史夫
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社 ,  理化学研究所
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-267379
公開番号（公開出願番号）：特開2003-071799
出願日： 2001年09月04日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】 電子及び光集積回路の配線等の種々の応用が可能な新規ナノワイヤを、簡便な方法により製造する。【解決手段】 自己組織的構造形成を利用して、超微粒子を線状に単粒子配列させてなり、その平均幅が超微粒子の平均直径の1〜5倍であるナノワイヤを得る。

請求項（抜粋）：

超微粒子が線状に単粒子配列を形成してなり、その平均幅が超微粒子の平均直径の1〜5倍の範囲であるナノワイヤ。

IPC (3件)：

B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  C01B 19/04

FI (3件)：

B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  C01B 19/04 H