特許
J-GLOBAL ID:200903080959992990
板状体の洗浄装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-098384
公開番号(公開出願番号):特開平5-299404
出願日: 1992年04月20日
公開日(公表日): 1993年11月12日
要約:
【要約】【目的】洗浄槽の中に渦流れや淀みのない整流された一方向の洗浄液の流れを維持してパーティクルを速やかに流出させる。【構成】開口部1aを持つ洗浄槽1の中に、保持具2で保持される複数の半導体ウェハ3を、その面を垂直にして、多数の給水小穴5を持つすのこ6の上に載せる。すのこ6と底の間に多数の細孔7aを持つ複数の給水管7を配置して給水管7から純水を供給し、すのこ6から洗浄槽1の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かう純水の流れ9を起こす。洗浄槽1の開口部1aに開閉可能に設けられる排水蓋13の全領域にほぼ均一に配置される多数の排水小穴14を設け、排水小穴14は複数の支管15と枝管16を介して排水管17に接続される。渦流れや淀みがないからパーティクル8は漂うことなく流出する。
請求項(抜粋):
保持具に保持される複数の板状体の面を垂直にして収納可能であって、上部に開口部を持つ有底筒状の洗浄槽と、この洗浄槽の下部に接続する給水管とからなる板状体の洗浄装置において、前記開口部に開閉可能に設けられる排水蓋と、前記給水管と前記板状体との間に設けられる均一給水手段とを備え、前記排水蓋は、前記洗浄槽の上部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置される多数の排水小穴を備え、前記均一給水手段は、前記洗浄槽の下部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置され前記給水管に連通する多数の給水小穴と、前記給水管からの動圧が前記給水小穴に直接に不均一に到達することを防ぐ動圧防止手段とを備えることを特徴とする板状体の洗浄装置。
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