特許

J-GLOBAL ID：200903080964465346

パターン露光装置及びパターン露光方法

発明者： 高橋 昭治
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-004707
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199797
出願日： 1997年01月14日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】 コストの増大を防止しつつ、不要な干渉光の発生を防止してパターンを正確に転写できるパターン露光装置及びパターン露光方法を提供すること。【解決手段】 光源と、半導体ウエハの露光面55に転写されるパターン(透過領域52a,52b及び遮光領域51)が形成された第1マスク63との間に、第2マスク62を介在させて、第1マスク63の透過領域52aを透過した光だけを半導体ウエハの露光面55にパターン56を転写する。続いて、第2マスク62を移動して、半導体ウエハの露光面55にパターン57を転写する。これによって、第1マスク63のパターンのピッチ間が狭小となっても干渉光の発生を防止でき、第1マスク63のパターンを半導体ウエハの露光面55に正確に転写することができる。

請求項（抜粋）：

遮光領域及び透過領域によって所定のパターンが形成されたマスクに光を照射し、前記透過領域を透過した透過光を基板上に照射することによって前記所定のパターンを基板上に転写するパターン露光装置において、照射された光を部分的に遮光し、前記基板上で干渉光が発生しないように前記透過光を調整する光調整手段を備えることを特徴とするパターン露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 E ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D