特許

J-GLOBAL ID：200903080969958006

X線マスクブランク及びX線マスク並びにパターン転写方法

発明者： 笑喜 勉 ,  河原 孝光
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-257500
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083951
出願日： 1996年09月06日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 50mm角の大きなウインドウサイズにおいても位置歪みが極めて小さく、極めて高い位置精度を有するX線マスクを製造できるX線マスクブランクを提供する。【解決手段】 基板11上に、X線透過膜12を有し、該X線透過膜12上にX線吸収体膜13を有するX線マスクブランクであって、前記X線透過膜12のヤング率と膜厚との積を6×108〜3×109dyn/cmとする。

請求項（抜粋）：

基板上にX線透過膜を有し、該X線透過膜上にX線吸収体膜を有するX線マスクブランクであって、前記X線透過膜のヤング率と膜厚との積が、6×108〜3×109dyn/cmであることを特徴とするX線マスクブランク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/302 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-174509
  
• 特開平2-281726
  
• 特開平1-112728