特許
J-GLOBAL ID:200903080979710355

非線型光学材料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-026566
公開番号(公開出願番号):特開平7-234427
出願日: 1994年02月24日
公開日(公表日): 1995年09月05日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 KNbO3 、LiNbO3 及びこれらの固溶体等の単結晶の薄膜を、基板の面に制限されることなく析出させて、導波路を形成する。【構成】 一般式XYO3 〔但し、Xはカリウム、ナトリウム、リチウム及び銀からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、Yはニオブ、タンタル及びアンチモンからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である〕で示される単結晶薄膜を基板上に析出育成する非線型光学材料の製造方法であって、前記基板が、前記一般式で表される単結晶の格子定数と近い格子定数を有し、かつ単結晶薄膜の析出育成条件下において、相転移を起こさない単結晶である前記製造方法。
請求項(抜粋):
一般式XYO3 〔但し、Xはカリウム、ナトリウム、リチウム及び銀からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり(但し、Xとしてリチウムを含む場合、リチウムの含有量は20モル%以下であり、残りの80モル%以上はカリウム、ナトリウム及び銀からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である)、Yはニオブ、タンタル及びアンチモンからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である(但し、Yとしてアンチモンを含む場合、アンチモンの含有量は10モル%以下であり、残りの90モル%以上はニオブ及びタンタルからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である)〕で示される単結晶薄膜を基板上に析出育成する非線型光学材料の製造方法であって、前記基板が、前記一般式で表される単結晶の格子定数と近い格子定数を有し、かつ単結晶薄膜の析出育成条件下において、相転移を起こさない単結晶であることを特徴とする前記製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/35 505 ,  C30B 19/00 ,  C30B 29/30

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