特許
J-GLOBAL ID：200903080987484755
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-025757
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244075
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、孤立パターンや周期の大きいL/Sパターンに対しても十分な焦点深度が得られる投影露光装置を得ることを目的とする。【構成】 レーザ発振器等の光源30から出射されたコヒーレント光は、光強度分布均一化光学系31を通り、ミラー32により反射されて、APMフィルター33に入射する。APMフィルター33を通過した光は、レンズアレー34を通ってコンデンサレンズ35によりマスク8上に重畳され、マスク8のパターン情報を備えて、投影光学系13によりウエハ14上に投影される。ここで、APMフィルター33は、透明基板38上に透過領域36と、振幅を変える部分透光性部材37aと位相を変える透光性部材37bとからなる位相および振幅変調領域37とが形成され、コヒーレント光の位相と振幅とを部分的に変化させる。
請求項（抜粋）：
コヒーレント光を出射する光源と、露光パターンが形成されたマスク上に前記光源から出射された前記コヒーレント光を照射させる集光レンズ系と、基板表面に形成された感光性物質上に前記マスクを通過した光を集光させる投影光学系と、前記光源と前記集光レンズ系との間に配置され、前記光源から出射された前記コヒーレント光の位相と振幅とを部分的に変化させる領域を有するフィルタとを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
