特許

J-GLOBAL ID：200903080991395236

感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

発明者： 加藤 幸治 ,  粕谷 圭 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-273944
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113662
出願日： 1991年10月22日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂およびキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂の低分子量成分が除去されており、かつ、下記の構造式で表わされるフェノール類環状化合物を含有する感光性樹脂組成物およびこの塗膜を露光、現像するレジスト像の製造法。【化1】(R1は水素、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、R2は水素、アルキル基、アルコキシ基またはフェニル基を表わし、R1とR2とは同一であってもよく、nは4〜8の整数を表わす)【効果】 本発明の感光性樹脂組成物は、解像度、感度および耐熱性に優れ、高集積回路を作製するためのポジ型レジストに好適である。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂およびキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂のポリスチレン換算分子量2000以下の低分子量成分が30〜100重量%除去されており、かつ、下記構造式(I)で表わされるフェノール類環状化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。【化1】(R1は、水素、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、R2は、水素、アルキル基、アルコキシ基またはフェニル基を表わし、R1とR2とは同一であってもよく、nは、4〜8の整数を表わす。)

IPC (2件)：

G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027