特許
J-GLOBAL ID:200903080993383650

pn接合ダイオードおよびこれを用いた半導体集積回路装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 筒井 大和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-250329
公開番号(公開出願番号):特開平6-104455
出願日: 1992年09月21日
公開日(公表日): 1994年04月15日
要約:
【要約】【目的】 逆方向電圧を印加して用いるpn接合ダイオードにおける降伏電圧のバラツキを抑制する。【構成】 半導体基板6の内部にp形不純物の濃度のピークを有するp- 形拡散層17内に、角部20aを有するn+ 形拡散層20を設け、そのp- 形拡散層17と、n+ 形拡散層20との接合部にpn接合ダイオードを形成し、これに逆方向電圧を印加した際に、n+ 拡散層20の角部20aで降伏現象が起こる構造とした。
請求項(抜粋):
半導体基板の内部にp形不純物の濃度のピークを有する第1p形半導体層内に、角部を有する第1n形半導体層を設け、前記第1p形半導体層と、前記第1n形半導体層とのpn接合部に逆方向電圧を印加して用いることを特徴とするpn接合ダイオード。
引用特許:
審査官引用 (12件)
  • 特開平3-087072
  • 特開昭57-050480
  • 特開昭48-097485
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