特許
J-GLOBAL ID:200903080999762513
バリアー性積層体及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-283456
公開番号(公開出願番号):特開平9-123334
出願日: 1995年10月31日
公開日(公表日): 1997年05月13日
要約:
【要約】【課題】樹脂フィルムと金属蒸着薄膜との密着性が良く、かつ、ガスバリアー性に優れたバリアー性積層体とその製造方法を提供すること。【解決手段】樹脂フィルムの片面に低温プラズマCVD法によりシリコン化合物の薄膜を形成させ、その薄膜上に物理蒸着法により金属または金属化合物の薄膜を積層させてなる。
請求項(抜粋):
樹脂フィルムの片面に低温プラズマCVD法によりシリコン化合物の薄膜を形成させ、その薄膜上に物理蒸着法により金属または金属化合物の薄膜を積層させてなることを特徴とするバリアー性積層体。
IPC (5件):
B32B 9/00
, B32B 15/08
, C08J 7/06
, C23C 16/42
, C23C 28/00
FI (5件):
B32B 9/00 A
, B32B 15/08 F
, C08J 7/06 Z
, C23C 16/42
, C23C 28/00 A
引用特許: