特許
J-GLOBAL ID：200903081007170020
基板のプラズマクリーニング装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-282285
公開番号（公開出願番号）：特開平7-135191
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 多数枚の基板が搭載されたパレットをプラズマ発生用のケーシング内に収納して基板のプラズマクリーニングを行う装置において、全体のタクトタイムを大幅に短縮できる手段を提供すること。【構成】 プラズマクリーニングを行うケーシング3の上方に配設されてパレット2を昇降手段20から一時的に退避させる支壁13,14と、昇降手段20に載置されたパレット2をケーシング3およびこの支壁13,14に出し入れするための出し入れ手段30〜36と、搬送路40の上方にあって、搬送路40と昇降手段20に載置されたパレット2の間で基板1を受け渡しする受け渡し手段50とを構成した。
請求項（抜粋）：
高電圧を印加することによりプラズマを発生させて基板をクリーニングするケーシングと、このケーシングの上方に配設されて基板を搬送する搬送路と、このケーシングの開閉扉の前方に設置されて前記基板が搭載されたパレットを上下動させる昇降手段と、前記開閉扉の開閉手段と、前記ケーシングの上方に配設されて前記パレットを前記昇降手段から一時的に退避させる退避部と、前記昇降手段に載置された前記パレットを前記ケーシングおよびこの退避部に出し入れするための出し入れ手段と、前記搬送路の上方にあって、前記搬送路と前記昇降手段に載置されたパレットの間で前記基板を受け渡しする受け渡し手段とを備えたことを特徴とする基板のプラズマクリーニング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/3065
