レジスト塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-078088
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283327
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】基板にレジストを回転塗布する装置の構造に関し、塗布膜厚の均一性を損なうことなく、基板裏面へのレジスト飛沫の付着を防止することを目的とする。【構成】チャック11の吸着部11a より大径の頭部13a を有し、チャック11の軸部11b と緩やかに嵌合する被覆体13を設ける。被覆体13は上下方向に移動可能であり、レジスト塗布時にはチャック11が水平に吸着保持する基板1の裏面露出部に下方から当接してこれを被覆する。基板1搬送時にはこの被覆体13を降下させる。

請求項（抜粋）：

基板(1) の表面にレジストを塗布する装置であって、該基板(1) より小径の吸着部(11a) を有するチャック(11)と、上下方向に移動自在であり、且つ該チャック(11)が該吸着部(11a) 上で水平に吸着保持する該基板(1) の裏面露出部に下方から当接してこれを被覆する被覆体(13)とを有することを特徴とするレジスト塗布装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

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