特許

J-GLOBAL ID：200903081022173532

X線分析における試料台の位置設定方法および装置

発明者： 山田 隆 ,  池下 昭弘
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-188089
公開番号（公開出願番号）：特開平10-019810
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】 X線分析において、装置の構造が複雑化せず、正確な分析のできる試料台の位置設定方法および装置を提供する。【解決手段】 分析にも用いるX線源から1次X線を照射して試料表面で反射した反射X線について、所定の基準点から1次X線の進行方向への第1および第2の距離において、所定の基準線からの高さ方向の強度分布をそれぞれ測定し、それらの強度分布に基づいて、分析用検出器の直下の試料表面で全反射が起こるような試料台の位置からのずれを解消するように、分析用検出器の下方で、試料台の表面と1次X線とのなす角度および試料台の基準線からの高さを調整する。

請求項（抜粋）：

試料台に固定された試料に、分析にも用いるX線源から1次X線を照射し、所定の基準点から1次X線の進行方向への第1の距離において、試料表面で反射した反射X線について、所定の基準線からの高さ方向の第1の強度分布を測定し、前記基準点から1次X線の進行方向への第2の距離において、前記反射X線について、前記基準線からの高さ方向の第2の強度分布を測定し、前記第1および第2の強度分布から、分析に用いる分析用検出器の直下の試料表面で全反射が起こるような前記試料台の位置からのずれを得て、そのずれを解消するように、前記分析用検出器の下方において、前記試料台の表面と1次X線とのなす角度および前記試料台の前記基準線からの高さを調整するX線分析における試料台の位置設定方法。

IPC (4件)：

G01N 23/223 ,  G01N 1/28 ,  G12B 5/00 ,  G21K 1/06

FI (4件)：

G01N 23/223 ,  G12B 5/00 A ,  G21K 1/06 K ,  G01N 1/28 W