特許

J-GLOBAL ID：200903081026876570

薬液中重金属除去フィルタ

発明者： 萩前 広明 ,  渡辺 正博
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-190603
公開番号（公開出願番号）：特開平6-031267
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】【目的】本発明は、半導体製造工程のウェット処理工程の薬液処理において問題となるFe,Cu等の吸着形態の異なる重金属イオンを1種類のフィルタで除去可能とすることにある。【構成】上記目的は、各処理液内で問題となる複数の種類の重金属イオンをその特徴ある吸着形態に応じて、除去するためのフィルタを用いることで達成される。【効果】HF薬液中でSi表面に吸着して問題となるCuイオンは、Si粒子により吸着除去することができる。そして、アンモニア・過水や純水中で酸化膜中に取り込まれて吸着するFeイオンは、イオン交換樹脂によって吸着除去される。このため、それぞれの粒子を混合させたフィルタを用いることで、各薬液中で問題となる重金属イオンを吸着除去することが可能となり、清浄な薬液を供給することができる。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程の特にウェット処理工程において、シリコンウェハ表面に生成したシリコン酸化膜を除去するフッ化水素酸薬液(以下HF薬液)エッチング工程で、HF薬液中に溶け込んでいる有害物質(重金属イオンなど)を被洗浄物と同じ物質でフィルタを作成し、該フィルタを被洗浄物処理槽への薬液供給系の前段に設けて事前に除去する方法において、特に、HF薬液中やアンモニアと過酸化水素水の混合液(以下アンモニア・過水と称す)など薬液中の重金属イオンを効率良く吸着除去することを特徴とする薬液中重金属除去フィルタ。

IPC (2件)：

C02F 1/28 ,  H01L 21/306