特許
J-GLOBAL ID：200903081029362926
合成石英ガラスの製造方法および合成石英ガラス中の水素分子濃度の制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086181
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281359
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】【課題】 直接法により製造された合成石英ガラスインゴットは、外的な要因により部分ごとに合成状況がゆらぎ、このため溶存水素分子濃度は合成石英ガラスインゴット全体で一様ではなく合成状況によって変化して濃度分布を生じ、同一の合成条件で製造した合成石英ガラスや同一の合成石英ガラスインゴット内においても、適正な水素分子濃度の範囲にない部分が生じることがある。【解決手段】 炉内で炉内温度の測定を行うことにより、インゴットの粘性や温度及びそれらの分布を推測して溶存水素分子の生成量や拡散速度等と関連づけ、溶存水素分子濃度の推定が可能である。
請求項（抜粋）：
合成炉内にケイ素化合物と燃焼ガスとを噴出して火炎中でシリカ微粒子を発生させ、基体上に堆積させる合成石英ガラスの製造方法において、合成石英ガラス製造中の合成炉内の温度を所定温度±25°C以内に保つことにより、得られる合成石英ガラス中の溶存水素濃度のばらつきを抑えることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 8/04 Z
, C03B 20/00 F
