特許
J-GLOBAL ID：200903081032498227
減圧CVD膜生成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-345886
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196413
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】竪型の減圧CVD膜生成装置において、ボート3内へのガスの拡散を一様にしてウエハの膜厚のばらつきを減少すると共に、ボートを炉内に挿入する時、ボートやカバーの損傷を生じないようにする。【構成】CVDガス6を導入してインナーチューブ2内を流入し、ウエハ4にCVD膜を生成する装置において、ウエハ4を多数枚保持するボート3と、ボート3の開放部を覆うカバー5とを竪型炉の外で組立て、インナーチューブ2の中へ下方から挿入するようにした。
請求項（抜粋）：
竪型の減圧CVD膜生成装置において、ウエハを収納して炉内に下底から挿入する半割り円筒状のボートと、該ボートのウエハ挿入用開放部を覆うカバーとを炉外で組み立て可能に形成したことを特徴とする減圧CVD膜生成装置。
IPC (2件)：
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