ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-042271
公開番号（公開出願番号）：特開平7-248619
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】従来のレジスト特性を低下させることなく、時間経過に伴う異物の発生のない保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を得ること。【構成】アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、酸性化合物をフォトレジスト組成物に対して0.01〜1重量%含有するポジ型フォトレジスト。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、酸性化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 502 , H01L 21/027

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