ゴム系複合材料の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-226230
公開番号（公開出願番号）：特開2007-038556
出願日： 2005年08月04日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

【課題】ゴム種を選ばず良好な接着性を簡便に実現し得るゴム系複合材料の製造方法を提供する。【解決手段】基材層2上に、硫黄との反応が可能な接合層3が積層され、該接合層3上に1層又は複数層のジエン系ゴムを含む高硫黄配合ゴム組成物層4(ジエン系ゴム100質量部に対し硫黄が2質量部以上15質量部未満の割合で配合)が積層され、さらに該高硫黄配合ゴム組成物層4上にジエン系ゴムを含む低硫黄配合ゴム組成物層5(ジエン系ゴム100質量部に対し硫黄が0.01質量部以上2質量部未満の割合で配合)が積層された積層体を形成し、次いで、この積層体を加硫することからなるゴム系複合材料1の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材層上に、硫黄との反応が可能な接合層が積層され、該接合層上に1層又は複数層の高硫黄配合ゴム組成物層が積層され、さらに該高硫黄配合ゴム組成物層上に低硫黄配合ゴム組成物層が積層された積層体を形成し、次いで、この積層体を加硫することからなるゴム系複合材料の製造方法であって、前記高硫黄配合ゴム組成物層及び前記低硫黄配合ゴム組成物層が共にジエン系ゴムを含むゴム組成物にて形成される層であると共に、前記高硫黄配合ゴム組成物層が、前記ジエン系ゴム100質量部に対し硫黄が2質量部以上15質量部未満の割合で配合された高硫黄配合ゴム組成物にて形成され、かつ、前記低硫黄配合ゴム組成物層が、前記ジエン系ゴム100質量部に対し硫黄が0.01質量部以上2質量部未満の割合で配合された低硫黄配合ゴム組成物にて形成される層であることを特徴とするゴム系複合材料の製造方法。

IPC (8件)：

B29D 30/30 , B29C 35/02 , B29C 33/02 , B32B 25/16 , B60C 13/00 , B29D 30/72 , B60C 19/00 , B60C 5/14

FI (8件)：

B29D30/30 , B29C35/02 , B29C33/02 , B32B25/16 , B60C13/00 J , B29D30/72 , B60C19/00 B , B60C5/14 Z

Fターム (60件)：

4F100AA17B , 4F100AA25B , 4F100AB17B , 4F100AB18B , 4F100AB31B , 4F100AH04C , 4F100AH04D , 4F100AK28C , 4F100AK28D , 4F100AN00D , 4F100AN02C , 4F100AT00A , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10D , 4F100BA27 , 4F100BA27D , 4F100EH66B , 4F100EJ06 , 4F100GB32 , 4F100HB00A , 4F100JK06 , 4F100JL00 , 4F100YY00C , 4F100YY00D , 4F202AA45 , 4F202AA46 , 4F202AB03 , 4F202AC03 , 4F202AH20 , 4F202AR12 , 4F202CA21 , 4F202CB01 , 4F202CU02 , 4F202CY30 , 4F203AA45 , 4F203AA46 , 4F203AB03 , 4F203AC03 , 4F203AG03 , 4F203AH20 , 4F203AR12 , 4F203DA11 , 4F203DB01 , 4F203DC01 , 4F203DF02 , 4F203DJ01 , 4F212AA45 , 4F212AG01 , 4F212AG03 , 4F212AH20 , 4F212VA02 , 4F212VA11 , 4F212VD09 , 4F212VD22 , 4F212VK02 , 4F212VL11 , 4F212VL22 , 4F212VL27

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭62-87311号公報
ゴム系複合材料およびそれを用いたゴム物品
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-206077 出願人：株式会社ブリヂストン

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