特許

J-GLOBAL ID：200903081061280192

希土類磁石のメッキ方法および装置

発明者： 林 保光 ,  横枕 多賀夫
出願人/特許権者： 株式会社ダイドー電子
代理人 (1件)： 山本 喜幾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-318511
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131800
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 金属メッキ層を希土類磁石の表面全体に均一な膜厚で形成し得ると共に、歩留りを向上する。【解決手段】 第1メッキ装置10は、メッキ液が貯溜されたメッキ槽16に、環状に成形された複数の希土類ボンド磁石14が吊り下げられる治具22が着脱自在に装着される。治具22には、前方に略水平に延出する支持部と、支持部の先端に上方に向けて略直角に折曲形成された規制部とから略L字状に形成された複数の吊り下げ具26が、幅および上下方向に所定間隔で突設され、各吊り下げ具26の支持部に、希土類ボンド磁石14が回転可能な状態で吊り下げられる。メッキ槽16に装着された治具22はエアシリンダ30に連結され、該シリンダ30の正逆付勢により治具22が所定範囲で水平方向に往復移動されることで振動が付与される。

請求項（抜粋）：

治具(22)に設けた複数の吊り下げ具(26)の夫々に、環状に成形した希土類磁石(14)を吊り下げ、これら希土類磁石(14)を治具(22)と共にメッキ槽(16)に貯溜したメッキ液に浸漬した状態で、電気メッキにより各希土類磁石(14)の表面に金属メッキ層を形成するようにしたことを特徴とする希土類磁石のメッキ方法。

IPC (4件)：

C25D 21/10 302 ,  C25D 5/22 ,  C25D 7/00 ,  C25D 17/08

FI (4件)：

C25D 21/10 302 ,  C25D 5/22 ,  C25D 7/00 K ,  C25D 17/08 E

Fターム (10件)：

4K024AA03 ,  4K024AB01 ,  4K024AB02 ,  4K024BB14 ,  4K024BC05 ,  4K024BC06 ,  4K024CA12 ,  4K024CB02 ,  4K024CB21 ,  4K024GA16