特許

J-GLOBAL ID：200903081065950630

非等方的空間内の任意な反射面における粒子の弾性反射後の運動を求める方法

発明者： 江崎 達也
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-256795
公開番号（公開出願番号）：特開2002-076323
出願日： 2000年08月28日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
要約：

【要約】【課題】 結晶中の任意な反射面における電子又はホールの弾性反射後の運動状態を計算可能な非等方的空間内の任意な反射面における粒子の弾性反射後の運動を求める方法を提供すること。【解決手段】 この方法では、粒子の運動エネルギーが粒子の運動量の方向に依存するような非等方的空間内における任意の方向を向いた反射面での無限の大きさの力が時間的に一瞬に作用した場合に起こる弾性反射を有限の大きさの力が作用する運動に置き換えることにより弾性反射後の粒子の運動状態を求める。障壁Bでの反射の場合、直接的に力積FΔtを計算することはできないので、急峻な障壁Bを緩やかな障壁B′(傾きが一定の仮想的な反射面を示す)に置き換える。粒子が緩やかな障壁B′から受ける力Fは有限となるため、経路s,s′上の粒子の運動はhΔk/2π=FΔtを積分することにより求めることができる。

請求項（抜粋）：

粒子の運動エネルギーが該粒子の運動量の方向に依存するような非等方的空間内における任意の方向を向いた反射面での無限の大きさの力が時間的に一瞬に作用した場合に起こる弾性反射を有限の大きさの力が作用する運動に置き換えることにより該弾性反射後の該粒子の運動状態を求めるアルゴリズムを有することを特徴とする非等方的空間内の任意な反射面における粒子の弾性反射後の運動を求める方法。

IPC (2件)：

H01L 29/00 ,  G06F 19/00 110

FI (2件)：

H01L 29/00 ,  G06F 19/00 110

Fターム (3件)：

5B049BB07 ,  5B049EE03 ,  5B049EE41