特許
J-GLOBAL ID：200903081073394517
X線撮像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-074290
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281157
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 X線撮像装置の解像度を向上する。【構成】 本発明は、被写体(3)を透過したX線源(1)からのX線を検出することにより、被写体のX線透過像を撮像するX線撮像装置(2)において、被写体で放出される二次X線および可視光を透過せず、被写体を透過したX線源からのX線のみを選択的に透過する例えばAl製の容器(21)と、この容器の内部に設けられた撮像デバイス(24)と、この撮像デバイスの受光面側に設けられたファイバ光学プレート(23)と、このファイバ光学プレートの前面に設けられてX線の入射により発光するシンチレータ(22)とを備える。そして、上記容器の内面には、シンチレータからの光の反射を防止する処理が施されている。容器が可視光と二次X線を透過しない構成なので、X線撮像に係わる硬X線のみを透過させる。また、容器の内面には、シンチレーション光の反射防止処理がされているので、シンチレータからの光の再入射による解像度の低下が生じない。
請求項（抜粋）：
被写体を透過したX線源からのX線を検出することにより、前記被写体のX線透過像を撮像するX線撮像装置において、前記被写体で放出される二次X線および可視光を透過せず、前記被写体を透過した前記X線源からのX線のみを選択的に透過する容器と、この容器の内部に設けられた撮像デバイスと、この撮像デバイスの受光面側に設けられたファイバ光学プレートと、このファイバ光学プレートの前面に設けられてX線の入射により発光するシンチレータとを備え、前記容器の内面には前記シンチレータからの光の反射を防止する処理が施されていることを特徴とするX線撮像装置。
引用特許：
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