特許

J-GLOBAL ID：200903081078019870

レジストビード除去方法及び除去装置

発明者： 長野 勝一 ,  宿南 友幸 ,  松本 泰明 ,  三井田 淳
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-292447
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110501
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】ガラス基板の周縁部に発生するレジストビードの除去において、現像液の飛沫が基板上に跳ねて白抜けを発生させない、大型化してもタクトタイムが長くならず、更に現像液、リンス液などの使用量が増大しないレジストビード除去 方法及び除去装置を提供すること。【解決手段】フォトレジストを塗布、初期乾燥した直後に、ガラス基板周縁部のレジストビードを、フォトレジストを溶解しない液体の高圧噴射16によって除去すること。及び高圧噴射するヘッド部11を具備すること。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上にフォトレジストの塗布膜を形成する際に、フォトレジストを塗布、初期乾燥した直後に、ガラス基板周縁部のレジストビードを、フォトレジストを溶解しない液体の高圧噴射によって除去することを特徴とするレジストビード除去方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05D 3/12 ,  B05D 7/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/16

FI (7件)：

B05D 3/12 E ,  B05D 7/00 H ,  B05D 7/00 E ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/30 577

Fターム (21件)：

2H025AA18 ,  2H025AB13 ,  2H025DA19 ,  2H025EA10 ,  2H048BA11 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA12 ,  2H088MA01 ,  2H088MA20 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB24Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075EA45 ,  5F046JA15