特許
J-GLOBAL ID:200903081110722058

防汚性トンネル内壁、その防汚方法および洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-212038
公開番号(公開出願番号):特開平10-037688
出願日: 1996年07月22日
公開日(公表日): 1998年02月10日
要約:
【要約】【目的】 排気ガスなどで汚れることのない防汚性のトンネル内壁を提供する。また、トンネル内壁の防汚方法を提供する。更に、実質的に交通規制を行うことなく実施することの可能なトンネル内壁の洗浄方法を提供する。【構成】 トンネル内壁(12、14)の表面は光触媒含有層(18)で被覆される。光触媒はトンネル照明(16)により光励起され、光触媒層(18)の表面は水との接触角が約0 ゚になる程度に超親水化される。排気ガス中の煤煙のような疎水性の汚染物質は超親水化された表面には付着しにくい。必要に応じて作業車(22)から水を噴射すれば、汚れを容易に洗い落とすことができる。
請求項(抜粋):
トンネル内壁の表面を半導体光触媒含有層で被覆してなり、前記光触媒が光励起されるに応じて前記層の表面が親水化され、もって、疎水性の汚染物質がトンネル内壁の表面に付着するのが防止されるようになっていることを特徴とする防汚性トンネル内壁。
IPC (5件):
E21D 11/04 ,  B08B 17/02 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  E21F 17/00
FI (5件):
E21D 11/04 Z ,  B08B 17/02 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  E21F 17/00

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