特許
J-GLOBAL ID:200903081112111170
歯科用窯
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浜田 治雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-052728
公開番号(公開出願番号):特開2009-207901
出願日: 2009年03月05日
公開日(公表日): 2009年09月17日
要約:
【課題】製造技術的な利点を有しているにもかかわらず、歯科材料の製造にも極めて良好に適合する歯科用窯を得る。【解決手段】この発明は、燃焼室が第1の予加熱期間中に50°K/分超、特に100°K/分超の第1の予加熱速度をもって予加熱され、それによって窯を少なくとも1000°C、特に1100°Cないし1250°Cに予加熱する歯科用窯に関する。前記第1の予加熱期間に対して少なくとも5分、特に少なくとも10分の長さの中間加熱期間が後続しその勾配あるいは加熱速度を歯科用窯(10)内で焼結される材料に応じて調節し、その後に30°K/分超、特に約50°K/分の加熱速度で加熱する最終予加熱期間(44)が続き、その間に少なくとも5分間、特に少なくとも10分間窯温度が前記第1の予加熱期間の終端の温度より高くに保持され、それに続いて窯(10)の強制冷却が実施される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
加熱室が第1の予加熱期間中に50°K/分超、特に100°K/分超の第1の予加熱速度をもって予加熱され、それによって窯を少なくとも1000°C、特に1100°C超に予加熱する歯科用窯であり、前記第1の予加熱期間に対して少なくとも5分、特に少なくとも10分の長さの中間加熱期間が後続しその勾配あるいは加熱速度を燃焼窯(10)内で焼結される材料に応じて調節し、その後に30°K/分超、特に50°K/分超の加熱速度で加熱する最終予加熱期間(44)が続き、その間に少なくとも5分間、特に少なくとも25分間窯温度が前記第1の予加熱期間の終端の温度より高くに保持され、それに続いて窯(10)の強制冷却が実施されることを特徴とする歯科用窯。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
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