特許

J-GLOBAL ID：200903081117353350

選択されたフェノール化合物のo-キノンジアジドスルホン酸エステル

発明者： アンドルー・ジエイ・ブレイクニー ,  アートウールー・エヌ・メデイーナ ,  メドハツト・エイ・トウーキー ,  ロレンス・フエレイラ ,  ソービー・タドロス
出願人/特許権者： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-035738
公開番号（公開出願番号）：特開平8-245463
出願日： 1996年01月31日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【課題】 ポジティブ作用型フォトレジストの製造に有用な感光性化合物の提供。【解決手段】 本化合物は、次の式【化1】(式中、R1、R2、R11およびR12はそれぞれ、水素、OD、ハロゲン、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキル基など、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R13およびR14はそれぞれ、水素、ハロゲン、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキル基など、xおよびyはそれぞれ0、1、2、3および4の整数、Ra、Rb、RcおよびRdは水素および、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキル基、vおよびwはそれぞれ0または1の整数、AおよびBはそれぞれ酸素、硫黄、およびメチレン基、各OD基はヒドロキシル基、または各Dがナフトキノンジアジドスルホニル基もしくはベンゾキノンジアジドスルホニル基であるo-キノンジアジドスルホン酸エステル基である)を有する。

請求項（抜粋）：

式(IA)および(IIA)【化1】(式中、R1、R2、R11およびR12はそれぞれ、水素、ヒドロキシル、ハロゲン、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキル基、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキルエーテル基および1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキルチオエーテル基からなる群から互いに独立に選択され;R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R13およびR14はそれぞれ、水素、ハロゲン、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキル基、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキルエーテル基および1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキルチオエーテル基からなる群から互いに独立に選択され;xおよびyはそれぞれ0、1、2、3および4からなる群に属する整数から互いに独立に選択され;Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ水素および、1〜4個の炭素原子をもつ低級アルキル基から互いに独立に選択され;vおよびwはそれぞれ0と1とからなる群に属する整数から互いに独立に選択されまたそれぞれ一つの縮合環上のvとwとの和は1または2であり;そしてAおよびBはそれぞれ、酸素、硫黄、およびメチレン基からなる群から互いに独立に選択される)を有する化合物の群から選択されるフェノール化合物。

IPC (8件)：

C07C 39/15 ,  C07C 39/17 ,  C07C 43/23 ,  C07D307/80 ,  C07D317/54 ,  C07D319/18 ,  C08G 8/10 NBC ,  G03F 7/039

FI (8件)：

C07C 39/15 ,  C07C 39/17 ,  C07C 43/23 C ,  C07D307/80 ,  C07D317/54 ,  C07D319/18 ,  C08G 8/10 NBC ,  G03F 7/039

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジ型フオトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-007762   出願人：富士写真フイルム株式会社