特許

J-GLOBAL ID：200903081118678902

電界発光素子およびその製造方法

発明者： 林 崇子 ,  佐野 寛幸 ,  酒井 悟
出願人/特許権者： スタンレー電気株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-153948
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329743
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】 従来のマスク蒸着によるドットマトリクスEL素子の製造方法では、基本的に微細化が難しく精細な表示を得ることができない。工程が煩雑などの問題点がある。【解決手段】 基板上にストライプ状の第1絶縁層および電極を形成し該電極上の表示画素以外の領域に第2絶縁性材料層を形成した基板、または基板上にストライプ状の第1電極層を形成し該電極層上の表示画素領域に絶縁性材料層および第2電極層を順次形成し第1電極層と第2電極層を電気的に接続した基板を用い、該基板上に有機物発光層および陰極電極を順次積層形成する。その際、前記基板には絶縁性材料層を形成しているので段差が生じており、該段差により各表示画素ドット分離形成された有機EL素子が形成される。また、別基板に形成したストライプ状電極と前記表示画素とを対向させて接続してドットマトリクス型EL素子を得ることができる。

請求項（抜粋）：

基板上に仕事関数の異なる一対の電極間に挟まれた有機物発光層を有する電界発光素子において、前記基板上には、有機物発光層と第2電極層との合計厚み以上の厚さを有する第1絶縁性材料層と、該絶縁性材料層上に形成された第1電極層とを有し、両層は所定パターンに形成され、前記第1電極層上の表示画素となる領域以外の箇所には、有機物発光層と第2電極層との合計厚み以上の厚さを有する第2絶縁性材料層が形成され、前記第1電極層上の表示画素となる領域には、有機物発光層および第1電極層と仕事関数の異なる第2電極層が順に積層されている、ことを特徴とする電界発光素子。

IPC (4件)：

H05B 33/22 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/26

FI (4件)：

H05B 33/22 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/26 Z