特許

J-GLOBAL ID：200903081130980142

インライン式成膜装置

発明者： 石塚 仁司 ,  小野 賢 ,  大和 正幸 ,  鳫林 秀樹
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社 ,  大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-087056
公開番号（公開出願番号）：特開平5-287530
出願日： 1992年04月08日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【構成】 スパッタ、蒸着、イオンプレーティング又は化学気相成膜を行なうインライン式成膜装置において、少なくとも2つの成膜室を設け、成膜室A、搬送室及び成膜室Bをコの字状に配置したことを特徴とするインライン式成膜装置。【効果】 成膜に直接関係がないクリーンコンベアのスペースが不要で、従来の装置に比べ、クリーンルーム内のスペースが処理室の数に関係なく一定にでき、また、搬送中のダストの付着を少なくできるので、インライン式成膜装置をコンパクトなスペースに設置でき、従来と同等の膜質の基板を真空雰囲気のみを搬送することにより、ダストの付着を低減し安定して歩留りよく生産することができる。

請求項（抜粋）：

スパッタ、蒸着、イオンプレーティング又は化学気相成膜を行なうインライン式成膜装置において、少なくとも2つの成膜室を設け、成膜室A、搬送室及び成膜室Bをコの字状に配置したことを特徴とするインライン式成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/56 ,  C23C 16/54 ,  C23C 28/00