特許
J-GLOBAL ID：200903081134714137
ヘッドスライダとこれを用いたディスク装置、及びヘッドスライダの撥水処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 土屋 繁
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000008135
公開番号（公開出願番号）：WO2002-041318
出願日： 2000年11月17日
公開日（公表日）： 2002年05月23日
要約：
ヘッドスライダの浮上時に塵埃が浮上面に付着することを抑制することができるヘッドスライダとこれを用いたディスク装置を提供するために、ヘッドスライダの浮上面に、少なくともエアベアリング部と、この浮上面上に負圧領域を形成するためにランド部が設けられており、このランド部はスライダベースの端面よりもディスク媒体側に一段の段差を備えて形成されたものにおいて、ランド部の端面と、スライダベースの端面の撥水性を、エアベアリング部の撥水性よりも高める。このとき、エアベアリング部の撥水性よりもランド部の端面の撥水性を高め、ランド部の端面の撥水性よりもスライダベースの端面の撥水性を高めることもできる。
請求項（抜粋）：
ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダのディスク媒体に対向する浮上面の空気の流入側に、スライダベースから段階的に段差を付けて形成された平坦な複数段のステップを備え、このステップの空気の流れの下流側の前記ディスク対向面に負圧領域が形成されるヘッドスライダにおいて、
前記スライダベースからの距離が最も大きい段のステップに、空気を前記負圧領域に導く少なくとも1つの溝を形成し、この溝の深さは最大で次に距離が大きい段のステップの表面までとなるように形成したことを特徴とするヘッドスライダ。
IPC (4件)：
G11B21/21
, G11B5/41
, G11B5/60
, G11B21/12
G11B21/21 101Q
, G11B21/21 B
, G11B5/41 D
, G11B5/41 M
, G11B5/60 Z
, G11B21/12 J
