特許

J-GLOBAL ID：200903081135523874

粒度が大きい金属膜及びその被着方法

発明者： デビッド・ジョセフ・ハガーストン ,  キャサリン・デービス・インガーソル ,  アンソニー・ジョセフ・コネクニ ,  ペイ-イン・リー ,  カマレッシュ・カマー・スリバスタバ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-138576
公開番号（公開出願番号）：特開平6-088220
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 結晶学上の粒度が大きい構造を低温で被着された膜に与える。【構成】 温度範囲50°C乃至250°Cで、平均結晶粒度が1.0mmにほぼ等しいか、それより粒度が大きい構造、及び好適には、粒子構造内に好適結晶方位を有するターゲットからスパッタリングすることによって、粒度が大きい構造の金属膜、特にアルミニウムまたはアルミニウム合金が被着される。スパッタリング・プロセスは、好適には、回転磁界を伴うスパッタリング・ターゲット120にプラズマを向けることによる、面積が大きいスパッタリング・ターゲット120の全面に及ぶスパッタリングを含む。【効果】 被着された状態で粒度が大きい膜を温度を下げて形成することにより、被着時の高温や、金属膜被着後のアニール処理などの熱処理が不要になる。

請求項（抜粋）：

粒子構造の平均結晶粒度が1.0mmにほぼ等しいか、それより大きく、上記粒子構造の結晶方位が主に<100>、<111>、<110>、及び<311>の少なくとも1つになっている、スパッタリング・ターゲット。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 301 ,  H01L 21/363 ,  H01L 21/3205

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-002369
  
• 特開昭60-224775