特許

J-GLOBAL ID：200903081143637005

ポリマー残さ除去用組成物

発明者： ジャワド・ジェー・サバリ
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048934
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312074
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 電子デバイスのような基体からプラズマエッチングポリマー残渣を取り除く組織物を提供する。【解決手段】 基体からプラズマエッチングポリマー残渣を除去するための組織物であってテトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムヒドロキシド、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムカーボネート、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムアセテート、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムシトレート、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムシリケート、およびコリンヒドロキシドから選択される1以上の第1のポリマー溶解増進塩基、ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンホルメートおよびカルボン酸で緩衝されたヒドロキシルアミンから選択される1以上の第2のポリマー溶解増進塩基、並びに1以上の極性非プロント溶媒を含む組織物を特徴とする。

請求項（抜粋）：

基体からプラズマエッチングポリマー残さを除去するための組成物であって、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムヒドロキシド、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムカーボネート、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムアセテート、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムシトレート、テトラ(C1-C6)アルキルアンモニウムシリケート、およびコリンヒドロキシドから選択される1以上の第1のポリマー溶解増進塩基、ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンホルメートおよびカルボン酸で緩衝されたヒドロキシルアミンから選択される1以上の第2のポリマー溶解増進塩基、並びに1以上の極性非プロトン溶媒を含む組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/40 511 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 17/08

FI (5件)：

G03F 7/40 511 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 17/08