特許

J-GLOBAL ID：200903081154646863

水系処理剤濃度の自動測定装置と自動測定方法並びに制御方法

発明者： 川口 達也
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 渡邊 薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-032627
公開番号（公開出願番号）：特開2003-164852
出願日： 2002年02月08日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】 水系の処理剤濃度を連続的に高精度で測定できる水系処理剤濃度の自動測定装置及び方法等を提供すること。【解決手段】 少なくとも測定時に、水系を構成する水路から測定対象となる試料水S1を取り込んで、光学測定部404に連続通水させる手段と、前記試料水S1に反応試薬Rを添加する手段と、前記反応試薬Rが添加された測定用試料水S2中に含まれる処理剤Cの濃度を前記光学測定部404において自動測定する手段と、を少なくとも備えた水系処理剤濃度の自動測定装置及びこの装置を用いた水系処理剤濃度の自動測定方法を手供する。

請求項（抜粋）：

水系中の液体に添加された処理剤濃度を光学的に自動測定する装置であって、少なくとも測定時に、水系から測定対象となる試料水を取り込んで、光学測定部に連続通水させる手段と、前記試料水に反応試薬を添加して測定用試料水を形成する手段と、前記測定用試料水中に含まれる処理剤濃度を前記光学測定部において自動測定する手段と、を少なくとも備えたことを特徴とする水系処理剤濃度の自動測定装置。

IPC (9件)：

C02F 1/00 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 ,  C02F 5/10 620 ,  C02F 5/10 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/77 ,  G01N 31/00 ,  G01N 33/18

FI (9件)：

C02F 1/00 V ,  C02F 5/00 610 F ,  C02F 5/00 610 G ,  C02F 5/10 620 B ,  C02F 5/10 620 F ,  G01N 21/01 Z ,  G01N 21/77 B ,  G01N 31/00 V ,  G01N 33/18 C

Fターム (27件)：

2G042AA01 ,  2G042BD20 ,  2G042CA02 ,  2G042CB03 ,  2G042DA01 ,  2G042DA08 ,  2G042FA06 ,  2G042GA01 ,  2G042HA07 ,  2G054AA02 ,  2G054AB10 ,  2G054CA30 ,  2G054EA04 ,  2G054GB01 ,  2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059CC12 ,  2G059DD03 ,  2G059DD12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE07 ,  2G059FF08 ,  2G059FF12 ,  2G059MM12 ,  2G059NN02 ,  2G059PP01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 水系におけるアニオン性高分子電解質を含む処理剤濃度のオンストリーム監視装置及び処理剤注入量の制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-136696   出願人：伯東株式会社
• 水処理薬剤の水中濃度の測定方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-209241   出願人：株式会社片山化学工業研究所
• 溶液中のポリマーを検出する方法、検出器システム、およびこのような検出器システムを含んだクロマトグラフィー装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-522833   出願人：ウォーターズ・インヴェストメンツ・リミテッド