特許
J-GLOBAL ID：200903081156789270
長尺高分子基材に対する放射線グラフト重合方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
社本 一夫
, 栗田 忠彦
, 桜井 周矩
, 村上 清
, 細川 伸哉
, 小磯 貴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-303989
公開番号（公開出願番号）：特開2004-137385
出願日： 2002年10月18日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：
【課題】長尺の有機高分子基材、特にフィルムやネットなどの形状の長尺有機高分子基材に対して、少ないモノマー量で放射線グラフト重合を均一に且つ効率的に行う方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明は、長尺の有機高分子基材を順次送りだしてそれに放射線を照射する工程;照射済みの基材にモノマー液を噴霧しながらグラフト重合を行う工程;を含むことを特徴とする、長尺有機高分子基材の放射線グラフト重合方法に関する。本発明によって得られるグラフト材料は、ガス除去フィルタ、重金属類除去フィルタ、イオン交換材料、液体用イオン除去フィルタなどとして有用に用いることができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
長尺の有機高分子基材を順次送りだしてそれに放射線を照射する工程;照射済みの基材にモノマー液を噴霧しながらグラフト重合を行う工程;を含むことを特徴とする、長尺有機高分子基材の放射線グラフト重合方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (20件)：
4J026AA11
, 4J026BA05
, 4J026BA08
, 4J026BA12
, 4J026BA25
, 4J026BA29
, 4J026BA30
, 4J026BA31
, 4J026BA32
, 4J026BA39
, 4J026BB01
, 4J026BB02
, 4J026DB06
, 4J026DB22
, 4J026DB27
, 4J026DB32
, 4J026DB36
, 4J026DB38
, 4J026FA05
, 4J026GA08
